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真空氣氛箱式爐

真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環(huán)境下進行高溫熱處理的精密實驗設備。該設備采用高潔凈度的石英腔體,配合精密的溫度控制系統(tǒng)與氣體氛圍調控系統(tǒng),能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發(fā)等領域。

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  • 產品描述
  • 真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環(huán)境下進行高溫熱處理的精密實驗設備。該設備采用高潔凈度的石英腔體,配合精密的溫度控制系統(tǒng)與氣體氛圍調控系統(tǒng),能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發(fā)等領域。

     

    系統(tǒng)參數(shù):

    產品名稱

    真空氣氛箱式爐

    產品型號

    ZKX-300F

    最高溫度

    1100℃

    工作溫度

    ≤1000℃

    爐膛尺寸

    Φ316/φ300*550mm

    恒溫區(qū)

    Φ300*250mm

    承重范圍

    ≤3Kg

    爐膽材質

    石英

    加熱元件

    電阻絲

    測溫元件

    熱電偶K偶

    升溫速率

    0-1000℃≤10℃/min;1000℃~1100℃≤5℃/min

    控溫方式

    智能化30段可編程控制(PID獨立控制調節(jié))

    控溫精度

    ±1℃

    真空度

    真空度:-0.1MPa(機械泵4L)

    水冷制冷量

    1.5w

    水冷容積

    6L

    額定電壓

    380V

    額定功率

    12KW

    爐體尺寸

    956*800*1700mm(深*寬*高)

    標準配置

    氣路總成一套(含真空壓力表),石英膽一個,隔熱堵一個,鉤子一把,手套一副

    選配

    如需提升真空度,可更換真空泵或升級為高真空機組

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